觀察者網(wǎng)·大橘財(cái)經(jīng)訊（文/呂棟 編輯/尹哲）在集成電路制造領(lǐng)域，光刻機(jī)被稱為是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，而光刻膠就是“燃料”。

未來(lái)幾年，隨著中芯國(guó)際、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、長(zhǎng)鑫存儲(chǔ)等晶圓廠進(jìn)入產(chǎn)能擴(kuò)張期，高端光刻膠的國(guó)產(chǎn)化替代迎來(lái)重要窗口。

12月17日晚間，南大光電公告披露，其控股子公司寧波南大光電材料有限公司（下稱：寧波南大光電）自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶使用認(rèn)證，可用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)。

“本次產(chǎn)品的認(rèn)證通過(guò)，標(biāo)志著‘ArF光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化’項(xiàng)目取得關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠，為全面完成項(xiàng)目目標(biāo)奠定堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)?！惫嬷袑?xiě)道。

南大光電內(nèi)部人士今天在接受觀察者網(wǎng)采訪時(shí)透露，ArF光刻膠生產(chǎn)線已建成，可根據(jù)客戶需要量產(chǎn)。

受上述消息影響，創(chuàng)業(yè)板上市的南大光電今天高開(kāi)近14%，最終收漲8%，成交額接近16億元，而該公司收盤時(shí)的市值為146億元。

不過(guò)，需要注意的是，截至今年上半年，光刻膠業(yè)務(wù)還未給南大光電貢獻(xiàn)營(yíng)收。該公司坦言，ArF光刻膠存在穩(wěn)定量產(chǎn)周期長(zhǎng)、風(fēng)險(xiǎn)大等特點(diǎn)，后續(xù)是否能取得下游客戶訂單存在較多不確定性。

最近三年，南大光電凈利潤(rùn)增速驟降，2019年扣非凈利潤(rùn)僅為上市前的五分之一，而過(guò)去兩年來(lái)該公司股價(jià)漲幅達(dá)523%。

公告截圖

量產(chǎn)階段仍存諸多風(fēng)險(xiǎn)

觀察者網(wǎng)梳理相關(guān)資料發(fā)現(xiàn)，光刻膠是一種對(duì)光敏感的混合液體，可以通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工序?qū)⑺枰奈⒓?xì)圖形從光罩（掩模版）轉(zhuǎn)移到待加工基片上。

依據(jù)使用場(chǎng)景，待加工基片可以是集成電路材料、顯示面板材料或者印刷電路板（PCB）。

因此，按應(yīng)用領(lǐng)域分類，光刻膠又可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠。目前，國(guó)產(chǎn)光刻膠以PCB用光刻膠為主，顯示面板、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低。

浙商證券2020年4月研報(bào)截圖

作為技術(shù)難度最大的光刻膠品種，半導(dǎo)體光刻膠也是國(guó)產(chǎn)與國(guó)際先進(jìn)水平差距最大的一類。

長(zhǎng)時(shí)間以來(lái)，為滿足集成電路對(duì)密度和集成度水平的更高要求，光刻機(jī)不斷通過(guò)縮短曝光波長(zhǎng)的方式，提高極限分辨率。

目前，光刻機(jī)光源波長(zhǎng)由紫外寬譜逐步縮短至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進(jìn)的EUV(<13.5nm)線水平。

本次南大光電通過(guò)客戶認(rèn)證的光刻膠，就是ArF光刻膠。

國(guó)元證券2019年1月研報(bào)截圖

南大光電表示，ArF光刻膠材料可以用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝，廣泛應(yīng)用于高端芯片制造（如邏輯芯片、 AI芯片、5G芯片、大容量存儲(chǔ)器和云計(jì)算芯片等）。

認(rèn)證評(píng)估報(bào)告顯示，“本次認(rèn)證選擇客戶50nm閃存產(chǎn)品中的控制柵進(jìn)行驗(yàn)證，寧波南大光電的ArF光刻膠產(chǎn)品測(cè)試各項(xiàng)性能滿足工藝規(guī)格要求，良率結(jié)果達(dá)標(biāo)。”

南大光電認(rèn)為，本次通過(guò)客戶認(rèn)證的產(chǎn)業(yè)化意義大。

“本次驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。”公告中稱。

至于為何選在50nm閃存產(chǎn)線驗(yàn)證，南大光電內(nèi)部人士向觀察者網(wǎng)表示，該公司產(chǎn)品分別在不同客戶處驗(yàn)證，有邏輯有存儲(chǔ)的。因?yàn)榇鎯?chǔ)的先通過(guò)，就先公告，其他的還在努力中。

不過(guò)，該人士并未向觀察者網(wǎng)透露，公告中的客戶是國(guó)內(nèi)或者國(guó)外廠商。

IC光刻流程圖

目前，全球光刻膠市場(chǎng)基本被美日大型企業(yè)壟斷，中國(guó)大陸內(nèi)資企業(yè)所占市場(chǎng)份額不足10%。

2019年，日韓貿(mào)易爭(zhēng)端中，日本就曾通過(guò)禁運(yùn)光刻膠對(duì)整個(gè)韓國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)造成打擊。

為支持國(guó)內(nèi)企業(yè)加大光刻膠開(kāi)發(fā)力度，2000年以來(lái)，我國(guó)出臺(tái)多項(xiàng)政策支持半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。

2006年，國(guó)務(wù)院在《國(guó)家中長(zhǎng)期科學(xué)和技術(shù)發(fā)展規(guī)劃綱要(2006-2020年)》中提出《極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝》項(xiàng)目，因次序排在所列16個(gè)重大專項(xiàng)第二位，在業(yè)內(nèi)被稱為“02專項(xiàng)”。

公告顯示，“ArF光刻膠產(chǎn)品開(kāi)發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”就是南大光電承接國(guó)家“02 專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。

券商統(tǒng)計(jì)的信息顯示，南大光電2017年承接的ArF光刻膠項(xiàng)目總投資額為6.6億元，其中國(guó)撥資金1.9億元，地方配套資金1.97億元，使用上市時(shí)的超募資金1.5億元及其他自籌資金。

該項(xiàng)目擬通過(guò)3年達(dá)到年產(chǎn)25噸ArF干式和浸沒(méi)式光刻膠產(chǎn)品的生產(chǎn)規(guī)模，預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)后年銷售收入平均為1.48億元，實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)0.6億元，投資回收期6.8年（包含3年建設(shè)期），內(nèi)部報(bào)酬率為18%。

截至今年上半年，光刻膠業(yè)務(wù)尚未給南大光電貢獻(xiàn)營(yíng)收。

該公司在公告中表示，ArF光刻膠產(chǎn)品與客戶的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。

“尤其是ArF光刻膠的復(fù)雜性決定其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn)，不僅需要技術(shù)攻關(guān)，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善，這些都會(huì)決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益。”

深交所互動(dòng)易截圖