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日對韓制裁范圍或再擴大，韓半導體產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展堪憂

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2019-07-11 22:01:34 字號：A- A A+ 來源：觀察者網(wǎng)

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韓國業(yè)界11日消息稱，日本政府計劃擴大限制對韓出口產(chǎn)品的范圍，或新增晶片、掩膜版、集成電路（IC）、電力半導體（PMIC）、光刻裝備、離子注入機等半導體相關(guān)產(chǎn)品。

據(jù)韓國《亞洲日報》報道，日企在晶片、掩膜版等領(lǐng)域的市場份額占比非常高。其中，掩膜版是半導體、LCD、OLED等制造過程使用的“Pothomask”原材料，隨著半導體工程的微細化，其重要性也愈發(fā)凸顯。

據(jù)透露，半導體制程核心材料掩膜版近期可能被列入禁止向韓國出口的名單之中。掩膜版一直由日本廠商主導，日本Hoya、CST、信越是該領(lǐng)域的領(lǐng)先企業(yè)。NH投資證券研究員道賢宇（音）表示，與日企相比，韓國掩膜版生產(chǎn)技術(shù)還存在很多不足。

據(jù)介紹，光刻膠同樣是半導體工藝中核心的材料之一，日本已確定禁止向韓國出口產(chǎn)品中則包括光刻膠。日本在EUV專用光刻膠領(lǐng)域基本處于壟斷地位，技術(shù)達到國際領(lǐng)先水平，而韓國EUV專用光刻膠技術(shù)目前還處于開發(fā)階段。

韓國業(yè)界人士透露，若日本對韓出口限制問題未盡快解決，三星原計劃明年1月正式開工的華城EUV專門生產(chǎn)線或出現(xiàn)差池。

三星電子曾于4月24日公布“半導體藍圖2030”計劃，宣布將在半導體業(yè)務投資133萬億韓元（約合人民幣7781億元）。其中投入73萬億韓元進行研究開發(fā)、投入60萬億韓元購置先進生產(chǎn)設施并招聘1.5萬名專業(yè)人才。

據(jù)悉，三星已建立全球第一條7納米EUV制程產(chǎn)線，今后將繼續(xù)擴大EUV生產(chǎn)線產(chǎn)能。三星副會長李在镕近日親赴日本，向Stella、JSR等日本半導體原料企業(yè)提議，希望能通過海外工廠提供貨源，并會見日本財經(jīng)界元老和企業(yè)人士協(xié)助斡旋。

此外，由于日本政府對韓出口管制措施恐將長期化，韓國中小企業(yè)危機感加劇。調(diào)查顯示，韓國有59%半導體相關(guān)中小企業(yè)表示，如果日本持續(xù)出口管制，企業(yè)經(jīng)營將難以撐過六個月。

韓國業(yè)界擔憂，若日方輸韓產(chǎn)品限制繼續(xù)升級，韓國包括半導體在內(nèi)的多個行業(yè)發(fā)展或受到?jīng)_擊，進而對全球供需結(jié)構(gòu)造成一定影響。
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