觀察者網(wǎng)·大橘財(cái)經(jīng)訊（文/呂棟 編輯/周遠(yuǎn)方）歷時(shí)近4個(gè)月，晶瑞股份從韓國(guó)進(jìn)口的二手ASML浸沒式光刻機(jī)終于到貨，“可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠”。

受此影響，創(chuàng)業(yè)板上市的晶瑞股份今天盤中最高漲逾13%；截至發(fā)稿，漲幅回落至5.12%；換手率超過11%，成交額近6億元，市值約68億元。

觀察者網(wǎng)查詢“i問財(cái)”信息發(fā)現(xiàn)，去年5月以來，包括晶瑞股份董事長(zhǎng)吳天舒、董事蘇鋼、副總經(jīng)理常延武、副總經(jīng)理胡建康等在內(nèi)的高管多次減持該公司股份，變動(dòng)市值近1.4億元，減持原因?yàn)閭€(gè)人資金需求等。

圖片來源：晶瑞股份

耗資超7000萬元

1月19日，晶瑞股份公告披露，經(jīng)該公司多方協(xié)商、積極運(yùn)作，順利購(gòu)得ASML XT 1900 Gi型光刻機(jī)一臺(tái)。該設(shè)備于當(dāng)天運(yùn)抵蘇州并成功搬入該公司高端光刻膠研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，可用于研發(fā)最高分辨率達(dá)28nm的高端光刻膠。下一步，該公司將組織相關(guān)資源，盡快完成設(shè)備的安裝調(diào)試。

公告截圖

晶瑞股份這次采購(gòu)最早披露于去年9月29日，該公司股價(jià)當(dāng)天漲停。

當(dāng)時(shí)的公告披露，其為開展集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目，擬通過代理商進(jìn)口韓國(guó)SK Hynix的ASML光刻機(jī)設(shè)備，總價(jià)款為1102.5萬美元（約合人民幣7138萬元）。

這臺(tái)浸沒式光刻機(jī)并非ASML最先進(jìn)產(chǎn)品。官網(wǎng)顯示，ASML浸沒式DUV光刻機(jī)最新型號(hào)為TWINSCAN NXT:2000i，可用于7nm工藝生產(chǎn)，而該公司一臺(tái)EUV光刻機(jī)的價(jià)格甚至超過1億歐元。

晶瑞股份表示，本次購(gòu)買的ASML光刻機(jī)設(shè)備系該公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項(xiàng)目的必要實(shí)驗(yàn)設(shè)備，旨在研發(fā)出更高端的ArF光刻膠，若研發(fā)工作進(jìn)展順利，將有助于該公司將光刻膠產(chǎn)品序列實(shí)現(xiàn)到ArF光刻膠的跨越，并最終實(shí)現(xiàn)應(yīng)用于12英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。

圖片來源：晶瑞股份

公告中介紹，晶瑞股份量產(chǎn)光刻膠近30年，先后承擔(dān)了國(guó)家“85”攻關(guān)、“863”重大專項(xiàng)、科技部創(chuàng)新基金等科技項(xiàng)目、承擔(dān)了國(guó)家02重大專項(xiàng)“i 線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目，并順利通過國(guó)家02重大專項(xiàng)驗(yàn)收，該公司完成中試的KrF光刻膠已進(jìn)入客戶測(cè)試階段，達(dá)到0.15μm的分辨率。

晶瑞股份還提示風(fēng)險(xiǎn)稱，研發(fā)項(xiàng)目經(jīng)歷時(shí)間較長(zhǎng)，且至產(chǎn)業(yè)化并最終實(shí)現(xiàn)銷售產(chǎn)生利潤(rùn)仍需一定時(shí)間，本次購(gòu)買的光刻機(jī)設(shè)備價(jià)格昂貴，其折舊及后續(xù)維護(hù)費(fèi)用預(yù)計(jì)對(duì)經(jīng)營(yíng)業(yè)績(jī)存在一定影響。

財(cái)報(bào)顯示，2020年1-9月，晶瑞股份實(shí)現(xiàn)營(yíng)收7.14億元，同比25.32%；實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)0.6億元，同比增長(zhǎng)196.42%；實(shí)現(xiàn)扣非凈利潤(rùn)0.3億元，同比增長(zhǎng)121.16%；計(jì)入當(dāng)期損益的政府補(bǔ)助859萬元。

而光刻膠業(yè)務(wù)并非晶瑞股份業(yè)績(jī)支撐點(diǎn)。2020年半年報(bào)顯示，晶瑞股份鋰電池材料營(yíng)收占比35.04%；超凈高純?cè)噭I(yíng)收占比29.48%；光刻膠營(yíng)收占比為10.05%。該公司透露，其生產(chǎn)的i線光刻膠已向合肥長(zhǎng)鑫、士蘭微、揚(yáng)杰科技、福順微電子等行業(yè)頭部公司供貨。

2020年三季報(bào)截圖

國(guó)產(chǎn)28nm光刻機(jī)定于去年底驗(yàn)收

觀察者網(wǎng)梳理發(fā)現(xiàn)，按應(yīng)用領(lǐng)域分類，光刻膠可分為PCB光刻膠、顯示面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠及其他光刻膠。目前，國(guó)產(chǎn)光刻膠以PCB用光刻膠為主，顯示面板、半導(dǎo)體用光刻膠供應(yīng)量占比極低。

而在半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，光刻機(jī)光源波長(zhǎng)逐漸由紫外寬譜縮短至g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）、 ArF（193nm）、F2（157nm），以及最先進(jìn)的EUV(<13.5nm)線水平，降低曝光波長(zhǎng)與光刻機(jī)使用的光源以及光刻膠材料高度相關(guān)。

圖片來源：方正證券研報(bào)

目前，全球光刻膠市場(chǎng)基本被日本、美國(guó)、中國(guó)臺(tái)灣等國(guó)家與地區(qū)幾家大型企業(yè)所壟斷，如日本合成橡膠（JSR）、東京應(yīng)化（TOK）、住友化學(xué)、信越化學(xué)、美國(guó)羅門哈斯等，市場(chǎng)集中度非常高。

國(guó)元證券2019年1月研報(bào)

不過，中國(guó)大陸企業(yè)也在加緊布局，業(yè)內(nèi)相關(guān)企業(yè)有北京科華微電子、晶瑞股份（瑞紅）、南大光電、上海新陽(yáng)、容大感光等。

上個(gè)月，南大光電發(fā)布公告稱，其自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過客戶使用認(rèn)證，可用于90nm-14nm甚至7nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)，這也是國(guó)內(nèi)通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠。

而光刻機(jī)對(duì)光刻膠的檢測(cè)評(píng)估必不可少。去年4月，在國(guó)家“02-專項(xiàng)”和寧波北侖區(qū)政府支持下，南大光電從荷蘭進(jìn)口一臺(tái)193nm浸沒式光刻機(jī)，用于光刻膠的驗(yàn)證和配合客戶進(jìn)行特種光刻工藝的開發(fā)工作。

光刻機(jī)被譽(yù)為“超精密制造技術(shù)皇冠上的明珠”，市場(chǎng)集中度比光刻膠更高，目前被ASML、尼康、佳能等廠商壟斷。在當(dāng)前局勢(shì)下，實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)的國(guó)產(chǎn)替代勢(shì)在必行，具有重大戰(zhàn)略意義。

2020年6月，方正證券在一份研報(bào)中提到：“在02專項(xiàng)光刻機(jī)項(xiàng)目二期中，設(shè)定的時(shí)間為2020年12月驗(yàn)收193nmArF浸沒式DUV光刻機(jī)，其制程工藝為28納米，對(duì)標(biāo)產(chǎn)品為ASML現(xiàn)階段最強(qiáng)DUV光刻機(jī)：TWINSCAN NXT:2000i。以NXT:2000i為例，各子系統(tǒng)拆分如下：上海微電子負(fù)責(zé)光刻機(jī)設(shè)計(jì)和總體集成，北京科益虹源提供光源系統(tǒng)，北京國(guó)望光學(xué)提供物鏡系統(tǒng)，國(guó)科精密提供曝光光學(xué)系統(tǒng)，華卓精科提供雙工作臺(tái)，浙江啟爾機(jī)電提供浸沒系統(tǒng)?！?

不過，觀察者網(wǎng)查詢上海微電子官網(wǎng)發(fā)現(xiàn)，其SSX600系列步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)最低分辨率為90nm，三款步進(jìn)掃描投影光刻機(jī)于2016年實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。目前，90nm制程的芯片一般用于電源管理芯片、MCU等非核心芯片的生產(chǎn)，尚不能滿足手機(jī)處理器等產(chǎn)品的需求。

上海微電子官網(wǎng)截圖

去年9月16日，在華為被“斷供芯片”一天后，時(shí)任中科院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上表示，將把美國(guó)卡脖子的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，比如航空輪胎、軸承鋼、光刻機(jī)，還有一些關(guān)鍵的核心技術(shù)、關(guān)鍵原材料等，在國(guó)家最關(guān)注的重大的領(lǐng)域，集中全院的力量來做。

一個(gè)月后，荷蘭ASML首席財(cái)務(wù)官羅杰·達(dá)森表示，中國(guó)客戶可以直接從荷蘭進(jìn)口DUV光刻機(jī)，無需任何出口許可，但他并未提到更先進(jìn)的EUV（極紫外）光刻機(jī)。

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