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三星宣布完成5納米EUV工藝研發(fā)

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2019-04-16 13:50:52 字號(hào)：A- A A+ 來(lái)源：觀察者網(wǎng)

關(guān)鍵字: 三星光刻光刻機(jī)

導(dǎo)讀
4月16日，三星官網(wǎng)發(fā)布消息稱(chēng)，三星電子已經(jīng)成功完成5納米（nm）極紫外光刻（EUV）開(kāi)發(fā)，以實(shí)現(xiàn)芯片的更大面積擴(kuò)展和帶來(lái)超低功耗。

（觀察者網(wǎng)訊）4月16日，三星官網(wǎng)發(fā)布消息稱(chēng)，三星電子已經(jīng)成功完成5納米（nm）極紫外光刻（EUV）開(kāi)發(fā)，以實(shí)現(xiàn)芯片的更大面積擴(kuò)展和帶來(lái)超低功耗。

三星電子稱(chēng)，其5nmFinFET工藝技術(shù)的開(kāi)發(fā)已經(jīng)完成，現(xiàn)在可以為客戶(hù)提供樣品。通過(guò)在其基于EUV的工藝產(chǎn)品中添加另一個(gè)尖端節(jié)點(diǎn)，三星稱(chēng)再次證明了其在先進(jìn)晶圓代工市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)地位。

與7nm相比，三星的5nm FinFET工藝技術(shù)將邏輯區(qū)域效率提高了25%，功耗降低了20%，性能提高了10%，從而能夠擁有更多創(chuàng)新的標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)。

三星稱(chēng)，5nm的另一個(gè)主要優(yōu)點(diǎn)是可以將所有7nm知識(shí)產(chǎn)權(quán)（IP）重用到5nm。因此，7nm客戶(hù)過(guò)渡到5nm將極大地受益于降低的遷移成本，預(yù)先驗(yàn)證的設(shè)計(jì)生態(tài)系統(tǒng)，從而縮短他們的5nm產(chǎn)品開(kāi)發(fā)時(shí)間。

“成功完成5nm開(kāi)發(fā)，我們已經(jīng)證明了我們?cè)诨贓UV的節(jié)點(diǎn)中的能力，”三星電子鑄造業(yè)務(wù)執(zhí)行副總裁Charlie Bae說(shuō)?！盀轫憫?yīng)客戶(hù)對(duì)先進(jìn)工藝技術(shù)不斷增長(zhǎng)的需求，以區(qū)分其下一代產(chǎn)品，我們繼續(xù)致力于加速基于EUV技術(shù)的批量生產(chǎn)。”
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- 責(zé)任編輯:張建鑫
- 最后更新: 2019-04-16 13:50:52
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