據(jù)日經(jīng)亞洲12月19日報道，Rapidus成為日本首家獲得極紫外（EUV）光刻設備的半導體公司，已經(jīng)開始在位于北海道正在建設的“IIM-1”芯片制造廠內(nèi)安裝極紫外光刻系統(tǒng)。

12月14日，荷蘭供應商ASML生產(chǎn)的極紫外光刻系統(tǒng)（EUV）的第一批部件抵達機場。由于系統(tǒng)規(guī)模龐大，高約3.4米，每個完整的單元重達71噸，大約和一頭鯨魚一樣大。它將分四個階段進行安裝，設備安裝預計在本月底完成。

EUV在卸貨日經(jīng)亞洲

極紫外光刻設備結合了特殊的光源、透鏡和其他技術，以形成超精細的電路圖案。因為系統(tǒng)的體積較大，因此對振動和其他干擾的敏感度較低。

11月，Rapidus CEO 小池淳義帶ASML監(jiān)事會成員Martin van den Brink參觀了潔凈室和其他廠房。Martin van den Brink曾擔任首席技術官，在開發(fā)極紫外光（EUV）技術方面發(fā)揮了關鍵作用，他批準了設備的安裝。

ASML是全球唯一一家極紫外光刻系統(tǒng)供應商。每套系統(tǒng)的價格在1.8億美元（約合人民幣13.1億元）以上，具體價格取決于型號。這些系統(tǒng)需要高水平的操作技能，只有少數(shù)芯片制造商包括臺積電、三星電子和英特爾采用了EUV系統(tǒng)。去年全球僅交付了42套系統(tǒng)。

Rapidus正在與美國科技巨頭國際商業(yè)機器公司IBM合作開發(fā)多閾值電壓GAA(全環(huán)繞柵極）晶體管技術，這些技術有望用于2nm制程的量產(chǎn)。Rapidus計劃在2025年春季使用最先進的2納米工藝開發(fā)原型芯片，于2027年開始大規(guī)模生產(chǎn)芯片。全球最大芯片代工廠臺積電的目標是于2025年開始大規(guī)模生產(chǎn)2納米芯片。

更精細的電路能為邏輯芯片提供更高的能效和計算能力。先進的芯片在未來幾十年內(nèi)決定經(jīng)濟主導地位的人工智能和其他技術中至關重要。

日本的半導體產(chǎn)業(yè)在20世紀80年代曾占有全球市場份額超50%，但到了21世紀，因為技術發(fā)展的滯后，日本的芯片制造商無法生產(chǎn)出比40納米更先進的芯片，退出了生產(chǎn)更小工藝邏輯芯片的競爭行列。

Rapidus由政府支持，旨在恢復日本生產(chǎn)先進芯片的能力，減少對進口的依賴。日本政府的目標是到2030年，日本芯片制造商的銷售額達到1.5萬億日元（約合人民幣705億元），是2020年的三倍。

目前，日本政府已決定向Rapidus提供9200億日元（約合人民幣432億元）的補助，并計劃在2025財年向Rapidus投資2000億日元（約合人民幣94億元）。不過，Rapidus仍然面臨4萬億日元（約合人民幣1881億元）的資金缺口。

“我們將從北海道和日本向全世界輸送尖端半導體，”12月18日在新千歲機場舉行的儀式上，小池這樣說道。

日本建筑商鹿島建設正在建造將容納Rapidus的極紫外光刻系統(tǒng)（EUV）的建筑。潔凈室由高砂熱工工程建造。

Rapidus下一步的計劃是積累專業(yè)知識。該公司已派遣約150名工程師前往IBM學習如何管理生產(chǎn)線。

日本政府的數(shù)據(jù)顯示，全球高端半導體市場預計到2030年將達5.3萬億日元（約合人民幣2900億元），較2020年增長近8倍。

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