國內(nèi)光刻膠取得不少進展

當前，由于全球芯片短缺，臺積電、三星、英特爾紛紛開始增加產(chǎn)能，中國大陸晶圓廠也加入擴產(chǎn)隊伍。未來幾年，隨著中芯國際、長江存儲、長鑫存儲等本土晶圓廠進入產(chǎn)能擴張期，高端光刻膠的國內(nèi)供應(yīng)迎來重要窗口。國內(nèi)從事高端光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的公司主要有南大光電、上海新陽、晶瑞股份、北京科華等。

5月11日，南大光電在業(yè)績說明會上透露，目前該公司ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化項目已完成25噸光刻膠生產(chǎn)線建設(shè)，主要先進光刻設(shè)備，如ASML浸沒式光刻機等已經(jīng)完成安裝并投入使用。

2020年底，該公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品成功通過下游客戶的使用認證，成為通過產(chǎn)品驗證的第一只國內(nèi)ArF光刻膠，各項光學性能均達到商用膠的水平，可實現(xiàn)先進光刻膠的國內(nèi)供應(yīng)，產(chǎn)業(yè)化取得關(guān)鍵突破，拿到國內(nèi)光刻膠的首個訂單，實現(xiàn)小批量銷售。目前該公司公司光刻膠產(chǎn)品正在繼續(xù)發(fā)往多個下游客戶進行驗證工作，驗證進展順利。

南大光電業(yè)績說明會截圖

南大光電還透露，從目前測試結(jié)果看，ArF光刻膠性能上和日本產(chǎn)品達到同等水平，并實現(xiàn)了ArF光刻膠的本土化，打破了被國外長期壟斷的被動局面?！坝糜谫|(zhì)量檢測的光刻機等量測設(shè)備是國外進口的，我們已經(jīng)配備了，運轉(zhuǎn)良好，沒有被卡的顧慮。主要原材料是自己開發(fā)和生產(chǎn)的，沒有被卡風險。生產(chǎn)設(shè)備是聯(lián)合國內(nèi)企業(yè)研制的，也不存在被卡風險”。

該公司表示，光刻膠項目今年的主要任務(wù)是完成主要客戶認證，明年啟動量產(chǎn)，力爭盡早實現(xiàn)盈利。公告顯示，“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是南大光電承接國家“02專項”的一個重點攻關(guān)項目。

南大光電業(yè)績說明會截圖

今年1月，晶瑞股份發(fā)布公告，該公司從韓國進口的二手ASML浸沒式光刻機到貨，可用于研發(fā)高端的ArF光刻膠。該公司當時透露，完成中試的KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。

圖片來源：晶瑞股份

另外，根據(jù)申港證券2020年11月研報，北京科華的KrF光刻膠已經(jīng)通過包括中芯國際在內(nèi)的部分客戶認證，并實現(xiàn)批量供貨；在G線、i線光刻膠方面，北京科華和晶瑞股份都已實現(xiàn)量產(chǎn)供貨。

上海新陽4月28日發(fā)布的2020年財報顯示，該公司集成電路制造用ArF干法、KrF厚膜等中試光刻膠產(chǎn)品已取得優(yōu)異的客戶端測試結(jié)果，采購的用于i線光刻膠研發(fā)的Nikon-i14型光刻機，用于KrF光刻膠研發(fā)的Nikon-205C型光刻機，用于ArF干法光刻膠研發(fā)的ASML-1400型光刻機，用于ArF浸沒式光刻膠研發(fā)的ASML XT 1900 Gi型光刻機已全部到廠。

需要注意的是，盡管南大光電、晶瑞股份、上海新陽等已宣布光刻膠研發(fā)取得重大進展，但光刻膠目前仍不是這些公司的營收支柱。

2020年，南大光電研發(fā)投入2.3億元，占營收比重為38.98%；晶瑞股份研發(fā)投入為0.34億元，占營收比重為3.31%；上海新陽研發(fā)投入為0.8億元，占營收比重為11.57%。

截至發(fā)稿，南大光電、晶瑞股份、上海新陽三家公司的市值分別為124億元、84億元和128億元。

芯謀研究王笑龍向觀察者網(wǎng)指出，國內(nèi)部分號稱量產(chǎn)光刻膠的企業(yè)，其實出貨并不多，因為光刻膠生產(chǎn)出來后還要拿去晶圓廠進行大量驗證，并不是短時間就能實現(xiàn)替代，但是國內(nèi)能實現(xiàn)量產(chǎn)就代表有了更多選擇。

南大光電2020年財報截圖

晶瑞股份2020年財報截圖

上海新陽2020年財報截圖

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